Säitebanner

Neiegkeeten

Designideen fir Reinigungsmëttel op Waasserbasis

1 Iddien fir d'Formuléierung vun Botzmëttel op Waasserbasis

1.1 Auswiel vu Systemer

Déi üblech Botzmëttel op Waasserbasis kënnen an dräi Zorten opgedeelt ginn: neutral, sauer an alkalesch.

Neutral Botzmëttel ginn haaptsächlech op Plazen agesat, déi net resistent géint Säuren an Alkalien sinn. De Botzprozess benotzt haaptsächlech d'Mëschung vu Botzhëllefsmëttel a Tenside fir synergistesch Dreck vun der Uewerfläch vun de Substrater ze entfernen.

Säure Reinigung gëtt allgemeng fir d'Entfernung vu Rost a Kuelestoffoxid vu Metaller benotzt. Ënner sauren Bedéngungen gëtt et net vill Hëllefsmëttel. Säure Reinigung benotzt haaptsächlech d'Reaktioun tëscht Säure a Rost oder Kuelestoffoxid op der Metalloberfläche fir den Dreck ofzepellen. Gläichzäiteg ginn Hëllefsmëttel a Tenside benotzt fir den gereinegten Dreck ze emulgéieren an ze dispergéieren fir den Zweck vun der Reinigung z'erreechen. Dacks benotzt Säure sinn Salpetersäure, Salzsäure, Schwefelsäure, Phosphorsäure, Zitrounesaier, Oxalsäure, Essigsäure, Methansulfonsäure, Dodecylbenzolsulfonsäure, Borsäure, etc. Alkalesch Reinigung gëtt am wäitste verbreet an der industrieller Reinigung benotzt. Well Alkali selwer Planzeueleg verseife kann, fir hydrophil verseifeg Substanzen ze bilden, ass et ganz gëeegent fir Uelegflecken ze botzen. Dacks benotzt Alkali sinn NaOH, KOH, Natriumkarbonat, Ammoniakwaasser, Alkanolaminen, etc.

1.2 Auswiel vun Hëllefsmëttelen

An der industrieller Reinigung gi Additiven, déi fir d'Botzwierkung hëllefräich sinn, als Botzhëllefsmëttel bezeechent, dorënner Chelatdispergéiermëttel, Korrosiounsinhibitoren, Entschäumer, antiseptesch Fungiziden, Enzympräparatiounen, pH-Stabilisatoren, etc. Dacks benotzt Hëllefsmëttel ginn an déi folgend Kategorien agedeelt:

Chelatdispersiounen: Phosphaten (Natriumpyrophosphat, Natriumtripolyphosphat, Natriummetaphosphat, Natriumphosphat, etc.), organesch Phosphaten (ATMP, HEDP, EDTMP, etc.), Alkanolaminen (Triethanolamin, Diethanolamin, Monoethanolamin, Isopropanolamin, etc.), Aminocarboxylater (NTA, EDTA, etc.), Hydroxylcarboxylater (Citraten, Tartrater, Gluconaten, etc.), Polyacrylsäure an hir Derivater (Maleinsäure-Acryl-Copolymer), etc.;

Korrosiounshemmer: Oxidfilmtyp (Chromater, Nitriter, Molybdater, Wolframater, Borater, etc.), Nidderschlagsfilmtyp (Phosphater, Carbonater, Hydroxider, etc.), Adsorptiounsfilmtyp (Silikater, organesch Aminer, organesch Carboxylsäuren, Petroleumsulfonater, Thioharnstoff, Urotropin, Imidazoler, Thiazoler, Benzotriazoler, etc.);

Entschäumer: Organosilicium, Polyethermodifizéiert Organosilicium, siliziumfräi Entschäumer, etc.

1.3 Auswiel vun Tenside

Tenside spille eng ganz wichteg Roll an der industrieller Reinigung. Si kënnen d'Uewerflächenspannung vum System reduzéieren, d'Permeabilitéit vum Produkt verbesseren an et dem Botzmëttel erlaben, séier an d'Innere vum Dreck anzedringen. Si hunn och en dispergéierenden an emulgéierenden Effekt op déi gebotzt Uelegflecken.

Déi allgemeng benotzt Tenside ginn an déi folgend Kategorien opgedeelt:

Net-ionesch: Alkylphenolethoxylater (NP/OP/TX Serie), Fettalkoholethoxylater (AEO Serie), isomer Alkoholethoxylater (XL/XP/TO Serie), sekundär Alkoholethoxylater (SAEO Serie), Polyoxyethylen-Polyoxypropylenether Serie (PE/RPE Serie), Alkylpolyoxyethylen-Polyoxypropylen, Polyoxyethylenether-Capped Serie, Fettsäure-Polyoxyethylen-Ester (EL), Fettamin-Polyoxyethylenether (AC), Acetylendiol-Ethoxylater, Alkylglykoside Serie, etc.;

Anionesch: Sulfonater (Alkylbenzolsulfonater LAS, α-Olefinsulfonater AOS, Alkylsulfonater SAS, Succinatsulfonater OT, Fettsäureestersulfonater MES, etc.), Sulfatester (K12, AES, etc.), Phosphatester (Alkylphosphater, Fettalkohol-Polyoxyethylenetherphosphater, Alkylphenol-Polyoxyethylenetherphosphater, etc.), Carboxylater (Fettsäuresalzer, etc.);

Kationesch: quaternär Ammoniumsalzer (1631, 1231, etc.);
Amphoter Ionen: Betainen (BS, CAB, etc.), Aminosäuren; Ammoniumoxiden (OB, etc.), Imidazolinen.

Botzmëttel


Zäitpunkt vun der Verëffentlechung: 16. Januar 2026