Ideje za oblikovanje formulacij čistilnih sredstev na vodni osnovi

1 Ideje za oblikovanje formulacij čistilnih sredstev na vodni osnovi

1.1 Izbira sistemov

Običajne sisteme čistil na vodni osnovi lahko razdelimo na tri vrste: nevtralne, kisle in alkalne.

Nevtralna čistila se uporabljajo predvsem na mestih, ki niso odporna na kisline in alkalije. Postopek čiščenja v glavnem uporablja mešanico čistilnih pomožnih snovi in ​​površinsko aktivnih snovi za sinergijsko odstranjevanje umazanije s površine substratov.

Kislo čiščenje se običajno uporablja za odstranjevanje rje in oksidnih oblog s kovin. V kislih pogojih ni veliko pomožnih sredstev. Kislo čiščenje v glavnem uporablja reakcijo med kislino in rjo ali oksidnimi oblogami na kovinski površini za luščenje umazanije. Hkrati se za emulgiranje in dispergiranje očiščene umazanije za dosego namena čiščenja uporabljajo pomožna sredstva in površinsko aktivne snovi. Pogosto uporabljene kisline vključujejo dušikovo kislino, klorovodikovo kislino, žveplovo kislino, fosforno kislino, citronsko kislino, oksalno kislino, ocetno kislino, metansulfonsko kislino, dodecilbenzensulfonsko kislino, borovo kislino itd. Alkalno čiščenje se najpogosteje uporablja v industrijskem čiščenju. Ker lahko alkalije same po sebi umilijo rastlinska olja in tvorijo hidrofilne umiljene snovi, je zelo primerno za čiščenje oljnih madežev. Pogosto uporabljene alkalije vključujejo NaOH, KOH, natrijev karbonat, amoniak, alkanolamine itd.

1.2 Izbira pomožnih sredstev

Pri industrijskem čiščenju imenujemo dodatke, ki so koristni za čistilne učinke, čistilna pomožna sredstva, ki vključujejo kelatne disperzante, zaviralce korozije, sredstva za odpenjanje, antiseptične fungicide, encimske pripravke, stabilizatorje pH itd. Pogosto uporabljena pomožna sredstva so razdeljena v naslednje kategorije:

Kelatni disperzanti: fosfati (natrijev pirofosfat, natrijev tripolifosfat, natrijev metafosfat, natrijev fosfat itd.), organski fosfati (ATMP, HEDP, EDTMP itd.), alkanolamini (trietanolamin, dietanolamin, monoetanolamin, izopropanolamin itd.), amino karboksilati (NTA, EDTA itd.), hidroksi karboksilati (citrati, tartrati, glukonati itd.), poliakrilna kislina in njeni derivati ​​(maleinski akrilni kopolimer) itd.;

Zaviralci korozije: vrsta oksidnega filma (kromati, nitriti, molibdati, volframati, borati itd.), vrsta obarjalnega filma (fosfati, karbonati, hidroksidi itd.), vrsta adsorpcijskega filma (silikati, organski amini, organske karboksilne kisline, naftni sulfonati, tiourea, urotropin, imidazoli, tiazoli, benzotriazoli itd.);

Odpihovalci: organosilicij, organosilicij modificiran s polietrom, odpihovalci brez silikona itd.

1.3 Izbira površinsko aktivnih snovi

Površinsko aktivne snovi igrajo zelo pomembno vlogo pri industrijskem čiščenju. Zmanjšajo površinsko napetost sistema, izboljšajo prepustnost izdelka in omogočijo, da čistilno sredstvo hitro prodre v notranjost umazanije. Prav tako imajo dispergirajoči in emulgirajoči učinek na očiščene oljne madeže.

Pogosto uporabljene površinsko aktivne snovi so razdeljene v naslednje kategorije:

Neionski: alkilfenol etoksilati (serija NP/OP/TX), etoksilati maščobnih alkoholov (serija AEO), izomerni alkoholni etoksilati (serija XL/XP/TO), etoksilati sekundarnih alkoholov (serija SAEO), serija polioksietilen polioksipropilen etrov (serija PE/RPE), alkil polioksietilen polioksipropilen, serija s polioksietilen etrom, polioksietilenski estri maščobnih kislin (EL), polioksietilenski etri maščobnih aminov (AC), etoksilati acetilenskega diola, serija alkil glikozidov itd.;

Anionski: sulfonati (alkilbenzen sulfonati LAS, α-olefin sulfonati AOS, alkil sulfonati SAS, sukcinat sulfonati OT, sulfonati estrov maščobnih kislin MES itd.), sulfatni estri (K12, AES itd.), fosfatni estri (alkil fosfati, polioksietilen eter fosfati maščobnih alkoholov, alkilfenol polioksietilen eter fosfati itd.), karboksilati (soli maščobnih kislin itd.);

Kationske: kvaternarne amonijeve soli (1631, 1231 itd.);
Amfoterni ioni: betaini (BS, CAB itd.), aminokisline; amonijevi oksidi (OB itd.), imidazolini.