સેમિકન્ડક્ટરમાં‑ઉપકરણ પ્રક્રિયા પ્રયોગો, રાસાયણિક સફાઈ એ સેમિકન્ડક્ટર, ધાતુ પદાર્થો અને પ્રયોગશાળાના વાસણોની સપાટી પર શોષાયેલી વિવિધ હાનિકારક અશુદ્ધિઓ અથવા તેલ દૂષકોને દૂર કરવાનો સંદર્ભ આપે છે. સફાઈમાં રાસાયણિક પ્રતિક્રિયાઓ અને ઓર્ગેનિક દ્રાવકોનો ઉપયોગ કરવામાં આવે છે જેથી વર્કપીસ સપાટી પર શોષાયેલી અશુદ્ધિઓ અને તેલ દૂષકો સાથે રાસાયણિક પ્રતિક્રિયાઓ અને વિસર્જન અસરો શરૂ થાય. વર્કપીસ સપાટીઓમાંથી અશુદ્ધિઓને શોષવા માટે અલ્ટ્રાસોનિકેશન, હીટિંગ અને વેક્યુમ પમ્પિંગ જેવા ભૌતિક પગલાં પણ લાગુ કરી શકાય છે. પછી વર્કપીસને મોટા પ્રમાણમાં ઉચ્ચ‑શુદ્ધતા ગરમ‑અને‑સ્વચ્છ સપાટી મેળવવા માટે ઠંડુ ડીઆયોનાઇઝ્ડ પાણી.
૧.૧ રાસાયણિક સફાઈનું મહત્વ
પ્રક્રિયા પરીક્ષણમાં દરેક પ્રયોગ માટે રાસાયણિક સફાઈ જરૂરી છે. રાસાયણિક સફાઈની ગુણવત્તા પ્રાયોગિક પરિણામો પર મહત્વપૂર્ણ પ્રભાવ પાડે છે. અયોગ્ય સફાઈ નિષ્ફળ અથવા નબળી થઈ શકે છે‑ગુણવત્તાયુક્ત પ્રાયોગિક પરિણામો. તેથી, સફળ પ્રક્રિયા પ્રયોગો માટે રાસાયણિક સફાઈના કાર્યો અને સિદ્ધાંતોને સમજવું જરૂરી છે.
જેમ જાણીતું છે, સેમિકન્ડક્ટરનો એક મુખ્ય ગુણધર્મ તેમની અશુદ્ધિઓ પ્રત્યે ઉચ્ચ સંવેદનશીલતા છે. ભાગો પર અશુદ્ધિઓ પણ શોધી કાઢો‑પ્રતિ‑મિલિયન લેવલ સેમિકન્ડક્ટરના ભૌતિક ગુણધર્મોને બદલી શકે છે. આ ગુણધર્મનો ઉપયોગ ડોપિંગ દ્વારા વિવિધ કાર્યો સાથે સેમિકન્ડક્ટર ઉપકરણો બનાવવા માટે થાય છે. તેમ છતાં, આ જ ગુણધર્મ સેમિકન્ડક્ટર માટે પડકારો બનાવે છે‑ઉપકરણ પ્રક્રિયા પ્રયોગો. રાસાયણિક રીએજન્ટ્સ, પ્રક્રિયા સાધનો અને સફાઈ પાણી, આ બધા હાનિકારક અશુદ્ધિઓના દૂષણના સ્ત્રોત તરીકે કાર્ય કરી શકે છે. આસપાસની હવામાં લાંબા સમય સુધી સંપર્કમાં રહેવાથી નૈસર્ગિક સેમિકન્ડક્ટર વેફર પણ નોંધપાત્ર અશુદ્ધિઓનો ભોગ બનશે. રાસાયણિક સફાઈ હાનિકારક અશુદ્ધિઓના દૂષણને દૂર કરે છે અને સ્વચ્છ સિલિકોન જાળવી રાખે છે.‑વેફર સપાટીઓ.
૧.૨ રાસાયણિક સફાઈનો અવકાશ
રાસાયણિક સફાઈ મુખ્યત્વે ત્રણ શ્રેણીઓને આવરી લે છે:
સિલિકોનની સફાઈ‑વેફર સપાટીઓ;
ધાતુના પદાર્થોની સફાઈ (દા.ત., બાષ્પીભવન ઇલેક્ટ્રોડ માટે ટંગસ્ટન ફિલામેન્ટ્સ, બાષ્પીભવન સપોર્ટ માટે મોલિબ્ડેનમ શીટ્સ, બાષ્પીભવન સ્ત્રોતો માટે એલ્યુમિનિયમ એલોય, ક્રોમિયમ માટે ક્રોમિયમ)‑માસ્ક બનાવટ);
સાધનો અને વાસણોની સફાઈ (દા.ત., ધાતુના ટ્વીઝર, ક્વાર્ટઝ ટ્યુબ, કાચના કન્ટેનર, ગ્રેફાઇટ મોલ્ડ, પ્લાસ્ટિક અને રબરના ઉત્પાદનો).
૧.૩ સિલિકોન પર દૂષિત અશુદ્ધિઓના પ્રકારો‑વેફર સપાટીઓ
(1) મોલેક્યુલર‑પ્રકાર અશુદ્ધિ શોષણ
લાક્ષણિક પરમાણુ‑સિલિકોન પર શોષાયેલા દૂષકો બનાવે છે‑વેફર સપાટીઓમાં કુદરતી અથવા કૃત્રિમ ગ્રીસ, રેઝિન અને તેલનો સમાવેશ થાય છે. સબસ્ટ્રેટ કટીંગ, ગ્રાઇન્ડીંગ અને પોલિશિંગ દરમિયાન દાખલ થતી અશુદ્ધિઓ મોટે ભાગે આ શ્રેણીમાં આવે છે. અન્ય સ્ત્રોતોમાં ફિંગરપ્રિન્ટ્સ, ફોટોરેઝિસ્ટ અવશેષો અને બાકી રહેલા કાર્બનિક‑દ્રાવક થાપણો.
મોલેક્યુલર‑પ્રકારની અશુદ્ધિઓ મોટે ભાગે ભૌતિક રીતે શોષાય છે અને સિલિકોન સાથે બંધાયેલી હોય છે‑ઇલેક્ટ્રોસ્ટેટિક આકર્ષણ દ્વારા વેફર સપાટીઓ. ગ્રીસ, રેઝિન અને તેલના પરમાણુઓ સામાન્ય રીતે બિન-‑ધ્રુવીય. તટસ્થ અશુદ્ધિ પરમાણુઓ અને સપાટી સિલિકોન પરમાણુઓના અસંતુષ્ટ અવશેષ બળો વચ્ચેના આકર્ષણથી બંધન ઉદ્ભવે છે. આ ક્રિયાપ્રતિક્રિયા પરમાણુ સ્ફટિકોમાં પરમાણુઓ વચ્ચે વાન ડેર વાલ્સ બળો જેટલી જ છે. આવા આકર્ષક બળો પ્રમાણમાં નબળા હોય છે અને વધતા આંતરઆણ્વિક અંતર સાથે ઝડપથી ક્ષીણ થાય છે. અસરકારક ક્રિયાપ્રતિક્રિયા શ્રેણી આશરે 2 છે.‑3×10⁻⁸સેમી (2‑3 Å), પરમાણુ વ્યાસ સાથે તુલનાત્મક. તેથી પરમાણુ‑પ્રકારની અશુદ્ધિઓ તુલનાત્મક રીતે સરળતાથી દૂર કરી શકાય છે.
બીજી મુખ્ય લાક્ષણિકતા એ છે કે મોટાભાગના પરમાણુ‑પાણી પ્રકારના દૂષકો છે‑અદ્રાવ્ય કાર્બનિક સંયોજનો. તેમનું શોષણ સિલિકોન બનાવે છે‑વેફર સપાટીઓ હાઇડ્રોફોબિક છે, જે ડીઆયોનાઇઝ્ડ પાણી / એસિડ વચ્ચે અસરકારક સંપર્કને અવરોધે છે‑આલ્કલી સોલ્યુશન્સ અને વેફર સપાટીઓ. આ રીએજન્ટ્સને સપાટીના કણો સાથે ક્રિયાપ્રતિક્રિયા કરતા અટકાવે છે અને અસરકારક રાસાયણિક સફાઈને અટકાવે છે.
(2) આયોનિક‑પ્રકાર અશુદ્ધિ શોષણ
સામાન્ય આયન‑સિલિકોન પર શોષાયેલી અશુદ્ધિઓ બનાવે છે‑વેફર સપાટીઓમાં K નો સમાવેશ થાય છે⁺, ના⁺, કેલિફોર્નિયા²⁺, મિલિગ્રામ²⁺, ફે²⁺, એચ⁺, ઓએચ⁻, એફ⁻, ક્લા⁻, સ²⁻, CO₃²⁻વગેરે. આ અશુદ્ધિઓ વિવિધ સ્ત્રોતોમાંથી ઉદ્ભવે છે: આસપાસની હવા, વાસણો અને સાધનો, રાસાયણિક એજન્ટો, ઓછી‑શુદ્ધતા ડીઆયોનાઇઝ્ડ પાણી, નળનું પાણી, બહાર કાઢેલો શ્વાસ અને ઓપરેટરનો પરસેવો.
આયોનિક‑શોષણનો પ્રકાર મોટે ભાગે રસાયણશાસ્ત્રનો છે. અશુદ્ધિ આયનો રસાયણશાસ્ત્ર દ્વારા વેફર સપાટીઓ સાથે જોડાય છે‑બંધન બળ. અશુદ્ધ આયનો અને સપાટીના અણુઓ વચ્ચેનું સંતુલન અંતર અત્યંત ટૂંકું હોય છે, જેથી શોષિત આયનોને સિલિકોન જાળીનો ભાગ ગણી શકાય. રસાયણ શોષિત આયનીય અશુદ્ધિઓ ફસાવવાના કેન્દ્રો તરીકે કાર્ય કરી શકે છે: કેટલાક મુક્ત જાળીવાળા ઇલેક્ટ્રોનને બાંધે છે અને સ્વીકારનાર તરીકે સેવા આપે છે; અન્ય મુક્ત છિદ્રોને ફસાવે છે અને દાતા તરીકે કાર્ય કરે છે. મજબૂત રસાયણ શોષણ બળોને કારણે, આયનીય અશુદ્ધિઓ દૂર કરવી એ પરમાણુ દૂષકોને દૂર કરવા કરતાં ઘણું મુશ્કેલ છે.
(3) અણુ‑પ્રકાર અશુદ્ધિ શોષણ
અણુ‑સપાટીના દૂષકો મુખ્યત્વે સોનું, ચાંદી, તાંબુ, લોખંડ અને નિકલ જેવા ધાતુના અણુઓ હોય છે. આ ધાતુના અણુઓ સામાન્ય રીતે એસિડિક ઇચેન્ટ્સમાં ઘટાડાત્મક વિસ્થાપન પ્રતિક્રિયાઓ દ્વારા ઉત્પન્ન થાય છે, જે સિલિકોન પર જમા થાય છે.‑વેફર સપાટીઓ.
અણુ‑પ્રકાર શોષણ સૌથી મજબૂત બંધનકર્તા બળ દર્શાવે છે અને તેને દૂર કરવું સૌથી મુશ્કેલ છે. ભારે‑સોના અને પ્લેટિનમ જેવા ધાતુના અણુઓ સામાન્ય એસિડ અને આલ્કલી સાથે ભાગ્યે જ પ્રતિક્રિયા આપે છે. તેથી દ્રાવ્ય સંકુલ બનાવવા માટે એક્વા રેજીયા જેવા ખાસ રીએજન્ટની જરૂર પડે છે. જટિલ ધાતુની પ્રજાતિઓ ત્યારબાદ ઉચ્ચ‑શુદ્ધતા ડીઆયોનાઇઝ્ડ પાણી.
૧.૪ સામાન્ય સિલિકોન‑વેફર સફાઈ પ્રક્રિયા
ઉપર વિશ્લેષણ કર્યા મુજબ, પરમાણુ‑પ્રકારની અશુદ્ધિઓ દૂર કરવી તુલનાત્મક રીતે સરળ છે. બાકીના પરમાણુ દૂષકો આયનીયને ઢાંકી શકે છે‑અને અણુ‑અશુદ્ધિઓને ટાઇપ કરો અને તેમના દૂર કરવામાં અવરોધ ઊભો કરો. તદનુસાર, સિલિકોન દરમિયાન પહેલા પરમાણુ દૂષકોને સંપૂર્ણપણે દૂર કરવા આવશ્યક છે‑વેફર રાસાયણિક સફાઈ.
આયોનિક‑અને અણુ‑પ્રકારની અશુદ્ધિઓ મજબૂત સપાટી આકર્ષણ સાથે રસાયણશાસ્ત્રમાં શોષાય છે. અણુ દૂષકો સામાન્ય રીતે ઓછી માત્રામાં હાજર હોય છે અને સામાન્ય એસિડ અને આલ્કલીમાં નિષ્ક્રિય હોય છે; તેઓ ફક્ત એક્વા રેજીયા અથવા એસિડિક હાઇડ્રોજન દ્વારા ઓગાળી શકાય છે.‑પેરોક્સાઇડ સોલ્યુશન્સ. એક્વા રેજીયા અને એસિડિક હાઇડ્રોજન પેરોક્સાઇડ પણ આયનીય અશુદ્ધિઓને ઓગાળી દે છે. પ્રમાણભૂત કાર્યપ્રણાલી એસિડનો ઉપયોગ કરે છે‑આયનીય અશુદ્ધિઓને પહેલા દૂર કરવા માટે આલ્કલી સોલ્યુશન અથવા આલ્કલાઇન હાઇડ્રોજન પેરોક્સાઇડ. પછી એક્વા રેજીયા અથવા એસિડિક હાઇડ્રોજન પેરોક્સાઇડનો ઉપયોગ કરીને શેષ આયનીય દૂષકો અને અણુ અશુદ્ધિઓ દૂર કરવામાં આવે છે. ઉચ્ચ કોગળા સાથે અંતિમ કોગળા‑શુદ્ધતા ડીઆયોનાઇઝ્ડ પાણી પ્રક્રિયા પૂર્ણ કરે છે.
સારાંશમાં, સામાન્ય સિલિકોન‑વેફર સફાઈ ક્રમ છે: ડીગ્રીસિંગ→આયન દૂર કરવું→અણુ‑અશુદ્ધિ દૂર કરવી→ડીયોનાઇઝ્ડ‑પાણીથી કોગળા.
દરેક પ્રયોગ પહેલાં સિલિકોન વેફર્સને રાસાયણિક સફાઈમાંથી પસાર થવું આવશ્યક છે. તેમ છતાં, સપાટીની સ્થિતિ દોડથી દોડતી અલગ અલગ હોય છે. તેથી સફાઈ રસાયણો અને પ્રાથમિકતા લક્ષ્યો તે મુજબ બદલાય છે. વ્યવહારુ સફાઈ કાર્યપ્રવાહ લવચીક છે. ચોક્કસ પદ્ધતિઓ અને પગલાં કેસ પર નક્કી કરવામાં આવશે.‑by‑વાસ્તવિક સફાઈ અનુસાર કેસના આધારે‑અસર જરૂરિયાતો.
૧.૫ સામાન્ય ધાતુઓ અને વાસણો માટે સફાઈ પ્રક્રિયા
ધાતુ પદાર્થો અને પ્રયોગશાળાના સાધનો સિલિકોનના મુખ્ય સ્ત્રોત છે.‑વેફર દૂષણ. વેફરની ખાતરી કરવા માટે ધાતુઓ અને વાસણોની સંપૂર્ણ સફાઈ ફરજિયાત છે‑સપાટીની સ્વચ્છતા. ધાતુઓ અને વાસણો માટે સામાન્ય સફાઈ સિદ્ધાંત છે: પહેલા ગ્રીસ દૂષકોને દૂર કરો; એસિડ, આલ્કલી, વોશિંગ સોલ્યુશન અથવા એક્વા રેજીયાથી એચિંગ અથવા ધોવા; અને ઉચ્ચ તાપમાને સંપૂર્ણ કોગળા કરીને સમાપ્ત કરો.‑શુદ્ધતા ડીઆયોનાઇઝ્ડ પાણી.
૨ સલામતી જ્ઞાન
પ્રયોગોમાં વારંવાર વિવિધ રસાયણો અને વાયુઓનો ઉપયોગ કરવામાં આવે છે, જેમાં જ્વલનશીલ, વિસ્ફોટક, ઝેરી અને કાટ લાગતા એસિડનો સમાવેશ થાય છે.‑ક્ષારયુક્ત પદાર્થો. અયોગ્ય સંચાલન અકસ્માતો પેદા કરી શકે છે. નિવારક પગલાંને પ્રાથમિકતા આપવી જોઈએ. જો કોઈ અકસ્માત થાય, તો શાંત રહો અને યોગ્ય સુધારાત્મક પગલાં તાત્કાલિક અમલમાં મૂકો.
૨.૧ કાર્બનિક દ્રાવકોનું સલામત સંચાલન
સામાન્ય કાર્બનિક દ્રાવકોમાં ટોલ્યુએન, એસીટોન, ઇથેનોલ, મિથાઈલ ઇથિલ કીટોન, ટ્રાઇક્લોરોઇથિલિન અને કાર્બન ટેટ્રાક્લોરાઇડનો સમાવેશ થાય છે. મોટાભાગના કાર્બનિક દ્રાવકો જ્વલનશીલ હોય છે અને ઉચ્ચ તાપમાન હેઠળ સળગે છે.‑તાપમાનની સ્થિતિ અથવા ખુલ્લી જ્વાળાઓની નજીક. તેમને ઇગ્નીશન સ્ત્રોતોથી દૂર ઠંડી જગ્યાએ સંગ્રહિત કરો. દ્રાવક કન્ટેનરને સીધા ઇલેક્ટ્રિક સ્ટવ પર ગરમ કરશો નહીં; પાણી‑જ્યારે ગરમ કરવાની જરૂર હોય ત્યારે સ્નાન ગરમ કરવાનું વધુ સારું છે. આગ લાગે ત્યારે, ભીના કપડા, બારીક રેતી, કાર્બનથી આગ ઓલવી દો.‑ડાયોક્સાઇડ અગ્નિશામક, કાર્બન‑ટેટ્રાક્લોરાઇડ અગ્નિશામક અથવા ફોમ અગ્નિશામક. ક્યારેય પાણી કે પાણીનો ઉપયોગ કરશો નહીં‑એસિડ આધારિત‑ક્ષાર અગ્નિશામક એજન્ટો.
કાર્બનિક દ્રાવકો અસ્થિર હોય છે અને તેમની ઝેરી અસર વિવિધ પ્રમાણમાં હોય છે. બધી કામગીરી પર્યાપ્ત વેન્ટિલેશન સાથે ફ્યુમ હૂડની અંદર કરવામાં આવશે.
૨.૨ એસિડ અને આલ્કલીનું સલામત સંચાલન
પ્રયોગો મજબૂતનો ઉપયોગ કરે છે‑સલ્ફ્યુરિક એસિડ, નાઈટ્રિક એસિડ, હાઇડ્રોક્લોરિક એસિડ, હાઇડ્રોફ્લોરિક એસિડ અને એક્વા રેજિયા જેવા એસિડ દ્રાવણો, તેમજ મજબૂત‑સોડિયમ હાઇડ્રોક્સાઇડ અને પોટેશિયમ હાઇડ્રોક્સાઇડ સહિત આલ્કલી દ્રાવણ. આ પદાર્થો માનવ ત્વચા અને કપડાં માટે ખૂબ જ કાટ લાગતા હોય છે, જેના માટે કાળજીપૂર્વક ઓપરેશનલ સલામતી નિયંત્રણની જરૂર પડે છે.
જ્યાં એસિડ અથવા આલ્કલી વરાળ એકઠા થઈ શકે છે ત્યાં અસરકારક વેન્ટિલેશન અને એક્ઝોસ્ટ સિસ્ટમ્સ સ્થાપિત કરો.
સંચાલકોએ રબરના મોજા અને રેસ્પિરેટર જેવા યોગ્ય રક્ષણાત્મક સાધનો પહેરવા જોઈએ.
ક્યારેય મોં દ્વારા એસિડ અથવા આલ્કલીના દ્રાવણને પીપેટ ન કરો; રબરના બલ્બવાળા પીપેટનો ઉપયોગ કરો.
બોટલ ટપકી ન જાય કે તૂટે નહીં તે માટે પરિવહન દરમિયાન સાવધાની રાખો. કન્ટેનર ખોલતી વખતે બોટલના છિદ્રોને કર્મચારીઓથી દૂર રાખો.
પાણીમાં ધીમે ધીમે સલ્ફ્યુરિક એસિડ નાખો જેથી તે મંદ થાય. ક્યારેય પણ સંકેન્દ્રિત સલ્ફ્યુરિક એસિડમાં પાણી ન નાખો.
તટસ્થીકરણ પહેલાં, સંકેન્દ્રિત એસિડ અથવા આલ્કલીને પાણીથી પાતળું કરો, પછી અનુરૂપ આલ્કલી અથવા એસિડ દ્રાવણનો ઉપયોગ કરીને તટસ્થીકરણ કરો.
ખાલી વાસણો જેમાં અગાઉ સંકેન્દ્રિત એસિડ અથવા આલ્કલીસ હતા તે સંપૂર્ણપણે પાણી કાઢી નાખવા જોઈએ, વારંવાર પાણીથી ધોઈ નાખવા જોઈએ, અને પછી નિયમિત સફાઈ પ્રક્રિયાઓ હાથ ધરવી જોઈએ.
એસિડની ઘટનામાં‑ક્ષાર બળી જાય, અસરગ્રસ્ત પેશીઓને તાત્કાલિક પુષ્કળ વહેતા પાણીથી ધોઈ નાખો. જો છાંટા આંખોમાં જાય, તો ઝડપથી મોટી માત્રામાં નળના પાણીથી આંખોને સિંચાઈ કરો. બળવાની તીવ્રતા કે આંખના સંપર્કને ધ્યાનમાં લીધા વિના, કોગળા કર્યા પછી તાત્કાલિક તબીબી સારવાર મેળવો.
૨.૩ વાયુઓનું સલામત સંચાલન
પ્રાયોગિક વાયુઓ ઉચ્ચ દ્વારા પૂરા પાડવામાં આવે છે‑પ્રેશર સિલિન્ડર અથવા ગેસ પાઇપલાઇન. ચોક્કસ વાયુઓનું મિશ્રણ કરવાથી દહન અથવા વિસ્ફોટ થઈ શકે છે.
ગેસ સિલિન્ડર રંગીન છે‑સમાવિષ્ટ વાયુઓ ઓળખવા માટે કોડેડ અને લેબલ કરેલ. સિલિન્ડરો ઉચ્ચ દબાણે ગેસ જાળવી રાખે છે; નવા ભરેલા સિલિન્ડરો આશરે 150 સુધી પહોંચે છે કિલો/સેમી²સંગ્રહ અને ઉપયોગ દરમિયાન ખાસ સલામતીની સાવચેતીઓ લાગુ પડે છે.
ઉનાળામાં ગેસ સિલિન્ડરનો સીધો સૂર્યપ્રકાશ ટાળો. જ્વલનશીલ પદાર્થો અને ઇગ્નીશન સ્ત્રોતોને સિલિન્ડરથી દૂર રાખો.‑સંગ્રહ ઝોન.
ગેસ લીકેજને કારણે થતા અકસ્માતોને ટાળવા માટે, સંપર્કમાં આવતા જ્વલનશીલ અથવા વિસ્ફોટક પ્રતિક્રિયા આપતા ગેસ જોડીઓ (દા.ત. હાઇડ્રોજન અને ઓક્સિજન સિલિન્ડર) અલગ અલગ રૂમમાં સંગ્રહિત કરો.
સિલિન્ડર ગેસ સંપૂર્ણપણે ખાલી ન કરો; સિલિન્ડરોની અંદર ચોક્કસ શેષ દબાણ જાળવી રાખો.
સિલિન્ડર વાલ્વ અને રેન્ચ પર ગ્રીસ દૂષણ અટકાવો.
હાઇડ્રોજનનો ઉપયોગ કરતી વખતે, નિષ્ક્રિય ગેસથી સાધનોમાંથી હવા સાફ કરો, લીક માટે સમગ્ર સિસ્ટમનું નિરીક્ષણ કરો અને ફ્લેશબેક એરેસ્ટર ઇન્સ્ટોલ કરો.
૨.૪ ઝેરી પદાર્થોનું સલામત સંચાલન
પ્રયોગોમાં ઝેરી રાસાયણિક રીએજન્ટ્સ અને સંયોજનો સાથે કામ કરતી વખતે ઝેર અટકાવો. મુખ્ય સલામતી સિદ્ધાંતો નીચે મુજબ છે:
ફ્યુમ હૂડની અંદર કામગીરી કરો. કચરાના અવશેષો અને કચરાના પ્રવાહીનો નિયુક્ત સલામત સ્થળોએ નિકાલ કરતા પહેલા તેની સારવાર કરો.
રેસ્પિરેટર અને રક્ષણાત્મક મોજા પહેરો. કોઈપણ કિંમતે ત્વચાના સંપર્ક અને ઝેરી પદાર્થોના મોઢાના ઇન્જેશનને ટાળો.
પ્રયોગો પૂર્ણ કર્યા પછી મોજા કાઢી નાખતા પહેલા તેમને પાણીથી સારી રીતે ધોઈ લો.
પોસ્ટ સમય: જુલાઈ-30-2026