Feinheitsanforderungen
AllgemeinIndustriereinigungPräzisions-Industriereinigung und Ultrapräzisions-Industriereinigung
Bei der allgemeinen industriellen Reinigung geht es um die Reinigung der Oberflächen von Fahrzeugen, Schiffen und Flugzeugen, wobei nur relativ grober Schmutz entfernt werden kann.
Die Präzisionsreinigung in der Industrie umfasst die Reinigung während der Verarbeitung verschiedener Produkte sowie die Reinigung der Oberflächen unterschiedlicher Materialien und Geräte und zeichnet sich durch ihre Fähigkeit aus, kleinste Schmutzpartikel zu entfernen.
Ultrapräzise industrielle Reinigung bezeichnet die ultrapräzise Reinigung von mechanischen Teilen, elektronischen Bauteilen, optischen Teilen und anderen Gegenständen in Präzisionsfertigungsprozessen mit dem Ziel, selbst kleinste Schmutzpartikel zu entfernen.
Reinigungsmethoden
Physische Reinigung undChemische Reinigung
Die physikalische Reinigung nutzt die Prinzipien der Mechanik, Akustik, Optik, Elektrizität und Thermodynamik. Mithilfe externer Energiequellen wie mechanischer Reibung, Ultraschallwellen, Unterdruck, Hochdruck, Aufprall, ultravioletten Strahlen und Dampf entfernt sie Schmutz von Oberflächen, ohne die chemische Zusammensetzung der Verunreinigungen zu verändern. Die ursprüngliche chemische Molekularstruktur bleibt also erhalten.
①Mechanische Reinigungsverfahren: Reinigung mit Kehr- und Schabermaschinen, Reinigung durch Rohrbohrung, Reinigung durch Kugelstrahlen.
②Hydraulische Reinigung: Niederdruck-Hydraulikreinigung mit einem Druck von 196 bis 686 Kilopascal, ungefähr 2 bis 7 Kilogramm-Kraft pro Quadratzentimeter, entsprechend 0,2 bis 0,7 MPa.
③Hochdruck-Hydraulikreinigung: Der Druck bei der Hochdruckreinigung erreicht 4900 Kilopascal, was etwa 50 Kilogramm-Kraft pro Quadratzentimeter bzw. 5 MPa entspricht. Dieses Verfahren ist auch als Hochdruckwasserstrahlreinigung bekannt und wird mit Hochdruckreinigungsmaschinen durchgeführt.
Die chemische Reinigung entfernt Oberflächenverschmutzungen von Objekten durch chemische Reaktionen mit chemischen Reagenzien oder anderen Lösungsmitteln. Beispiele hierfür sind die Beseitigung von Rost und Kalkablagerungen mit verschiedenen anorganischen oder organischen Säuren sowie die Entfernung von Oberflächenflecken mit Oxidationsmitteln. Chemische Reagenzien reagieren mit Oberflächenverunreinigungen oder Deckschichten (wie z. B. Kalkablagerungen), um diese zu entfernen. Dazu gehören beispielsweise Säure- und Laugenwäschen zur Kalkentfernung. Um Korrosion des Untergrunds während der chemischen Reinigung zu verhindern oder die Korrosionsrate innerhalb zulässiger Grenzen zu halten, werden den Reinigungslösungen üblicherweise Korrosionsinhibitoren und Additive mit aktivierenden, penetrierenden und benetzenden Eigenschaften in geeigneter Menge zugesetzt.
Reinigungstechniken；Tauchverfahren, Zirkulationsverfahren, Online-Reinigungsverfahren (auch kontinuierliches chemisches Reinigungsverfahren genannt).
Prinzip der elektronischen Kalkablagerungsbekämpfung und -entfernung: Hochfrequente elektrische Felder restrukturieren Wassermoleküle und erzielen so eine Kalkablagerungsbekämpfung und -entfernung. Beim Durchströmen eines hochfrequenten elektrischen Feldes verändert sich die physikalische Molekularstruktur des Wassers. Ursprünglich verbundene Makromolekülketten zerfallen in einzelne Wassermoleküle. Positive und negative Ionen von im Wasser gelösten Salzen werden von einzelnen Wassermolekülen umgeben, wodurch sich ihre Bewegungsgeschwindigkeit verringert, die Häufigkeit effektiver Kollisionen sinkt und die elektrostatische Anziehung geschwächt wird. Die Ionen können sich nicht mehr an erhitzten Wänden oder Rohroberflächen anlagern, wodurch die Bildung von Kalkablagerungen verhindert wird. Gleichzeitig verstärkt das erhöhte Dipolmoment der Wassermoleküle deren Bindungsfähigkeit an positive und negative Salzionen (Kalkmoleküle), wodurch Kalkablagerungen an erhitzten Oberflächen und Rohrwänden aufgeweicht und leicht entfernt werden können.
Die statische Kalkabscheidung und -entfernung erzielt dieselben Ziele wie die elektronische Entkalkung durch Modifizierung des Zustands der Wassermoleküle, beruht jedoch auf elektrostatischen Feldern anstelle elektronischer Effekte. Der Mechanismus liegt in der Polarität (Dipol-Eigenschaft) der Wassermoleküle. Beim Durchlaufen eines elektrostatischen Feldes richten sich die Wasserdipole kontinuierlich und geordnet nach ihren positiven und negativen Ladungen aus. Gelöste Salzionen im Wasser werden von diesen Wasserdipolen umhüllt und in Dipolclustern sequenziell angeordnet. Dies schränkt ihre freie Bewegung ein und verhindert, dass sie sich an den Wänden von Rohren und Anlagen ablagern und Kalk bilden. Zusätzlich bildet der im Wasser freigesetzte Sauerstoff einen extrem dünnen Oxidfilm auf den Rohrwänden, der die Korrosion der Wände mindert.
Reinigungsmedien
Nassreinigung und Trockenreinigung
Die Reinigung in flüssigen Medien wird allgemein als Nassreinigung bezeichnet, und die meisten traditionellen Reinigungsverfahren fallen in diese Kategorie.
Die Reinigung in gasförmigen Medien wird als Trockenreinigung klassifiziert. Dazu gehören Laserreinigung, Ultraviolettreinigung, Plasmareinigung und Trockeneisstrahlen.
Korrosionsinhibitoren
Ein Korrosionsinhibitor ist ein Stoff, der in geringen Mengen korrosiven Medien zugesetzt wird und die Metallkorrosion drastisch verlangsamt. Diese Methode zum Schutz von Metallen wird als Korrosionsschutz bezeichnet.
Klassifizierung von Korrosionsinhibitoren
Nach Wirkungsmechanismus: anodische Inhibitoren, kathodische Inhibitoren, Inhibitoren vom Mischtyp
Nach Schutzfilmeigenschaften: oxidierende Filmbildungsinhibitoren, Adsorptionsinhibitoren, Fällungsfilmbildungsinhibitoren
Weitere Klassifizierungskriterien:
①Organische und anorganische Korrosionsinhibitoren
②Korrosionsinhibitoren in flüssiger, gasförmiger und fester Phase
③Korrosionsinhibitoren für Stahl, Kupfer und Aluminium
④Säure-, alkalische und neutrale Korrosionsinhibitoren
Gegenstände reinigen
Reinigung vor der Inbetriebnahme, kontinuierliche Reinigung und Reinigung bei Stillstandszeiten
Reinigung vor der Inbetriebnahme
Neue Chemieanlagen müssen vor der Inbetriebnahme chemisch gereinigt und passiviert werden. Die Praxis hat gezeigt, dass die chemische Reinigung und Passivierung vor der Inbetriebnahme erhebliche Vorteile für die Produktionssicherheit und die Wirtschaftlichkeit mit sich bringt und somit beträchtliche wirtschaftliche Erträge generiert.
Zweck der Vorinbetriebnahme-Reinigung und Passivierung
Beim Walzen bildet sich Zunder auf Rohmetallen wie Stahlrohren, Stahlblechen und Edelstahl. Rost, Schweißschlacke, ölige Rostschutzmittel, die zum Korrosionsschutz auf Stahl aufgetragen werden, Staub, Sand, Zement, Wärmedämmstoffe und andere Verunreinigungen lagern sich während der Herstellung, des Transports, der Lagerung und der Installation an den Anlagen ab. Mit zunehmender Anlagenkapazität verlängert sich der Zeitraum von der Produktion der Stahlrohre und -bleche über die Anlagenfertigung, Logistik und Installation bis zur endgültigen Inbetriebnahme. Mehr Schweißverbindungen und größere erhitzte Oberflächen führen zu einem erhöhten Gesamtvolumen an Verunreinigungen, darunter Zunder, Rost, Schweißschlacke, Rostschutzmittel und Ablagerungen.
Nach der Reinigung bildet sich auf sauberen Metalloberflächen ein dichter chemischer Passivierungsfilm. Dieser Film verhindert wirksam die erneute Verschmutzung und bietet zuverlässigen Schutz für die Geräte vor Korrosion und anderen chemischen Schäden.
Kontinuierliche Reinigung
Bei einigen chemischen Anlagen kann der Betrieb während der Produktion nicht für Wartungs- und Reinigungsarbeiten unterbrochen werden, was die Entwicklung von Technologien für die kontinuierliche Reinigung vorangetrieben hat. Ausgereifte inländische Lösungen für die kontinuierliche Reinigung ermöglichen die chemische Reinigung und Passivierung im laufenden Betrieb und gewährleisten so einen stabilen Anlagenbetrieb und hohe Serviceeffizienz.
Stillstandsreinigung
Die Stillstandsreinigung bezeichnet Reinigungsarbeiten, die während der jährlichen planmäßigen Überholung von Chemieanlagen an allen Anlagen durchgeführt werden. Typischerweise werden einzelne Anlagenteile im Rahmen der Stillstandsreinigung einer chemischen Zirkulationsreinigung oder einer Hochdruckwasserstrahlreinigung unterzogen.
Veröffentlichungsdatum: 07.07.2026