औद्योगिक स्वच्छतेचे वर्गीकरण

सूक्ष्मतेच्या आवश्यकता

सर्वसाधारणऔद्योगिक स्वच्छताअचूक औद्योगिक स्वच्छता आणि अति-अचूक औद्योगिक स्वच्छता

सर्वसाधारण औद्योगिक स्वच्छतेमध्ये वाहने, जहाजे आणि विमानांच्या पृष्ठभागांची साफसफाई समाविष्ट असते, ज्याद्वारे केवळ तुलनेने जाडसर घाणच काढता येते.

अचूक औद्योगिक स्वच्छतेमध्ये विविध उत्पादनांच्या प्रक्रियेदरम्यानची स्वच्छता आणि विविध साहित्य व उपकरणांच्या पृष्ठभागांची स्वच्छता समाविष्ट आहे, जी धुळीचे सूक्ष्म कण काढून टाकण्याच्या क्षमतेसाठी ओळखली जाते.

अति-अचूक औद्योगिक स्वच्छता म्हणजे अचूक उत्पादन प्रक्रियेतील यांत्रिक भाग, इलेक्ट्रॉनिक घटक, ऑप्टिकल भाग आणि इतर वस्तूंची अत्यंत सूक्ष्म धूळ कण काढून टाकण्याच्या उद्देशाने केलेली अति-अचूक स्वच्छता होय.

स्वच्छता पद्धती

भौतिक स्वच्छता आणिरासायनिक स्वच्छता

भौतिक स्वच्छता ही यांत्रिकी, ध्वनिशास्त्र, प्रकाशशास्त्र, विद्युतशास्त्र आणि औष्णिकशास्त्र यांच्या तत्त्वांचा अवलंब करते. यांत्रिक घर्षण, अल्ट्रासोनिक लहरी, ऋण दाब, उच्च दाब, आघात, अतिनील किरणे आणि वाफ यांसारख्या बाह्य ऊर्जेवर अवलंबून, ही पद्धत दूषित घटकांच्या रासायनिक रचनेत बदल न करता वस्तूंच्या पृष्ठभागावरील घाण काढून टाकते, म्हणजेच त्यांची मूळ रासायनिक आण्विक रचना अपरिवर्तित राहते.

①यांत्रिक साफसफाईच्या पद्धती: स्वीपर आणि स्क्रॅपरने साफसफाई, ट्यूब ड्रिलिंगनंतरची साफसफाई, शॉट ब्लास्टिंगने साफसफाई.

२हायड्रॉलिक स्वच्छता: कमी दाबाची हायड्रॉलिक स्वच्छता, ज्याचा दाब 196 ते 686 किलोपास्कल्स, म्हणजेच अंदाजे 2 ते 7 किलोग्रॅम-फोर्स प्रति चौरस सेंटीमीटर, जो 0.2 ते 0.7 MPa च्या समतुल्य आहे.

③उच्च-दाब हायड्रॉलिक स्वच्छता: उच्च-दाब स्वच्छतेसाठीचा दाब ४९०० किलोपास्कल्स, म्हणजेच सुमारे ५० किलोग्रॅम-फोर्स प्रति चौरस सेंटीमीटर, ५ एमपीए इतका असतो. ही पद्धत उच्च-दाब वॉटर जेट स्वच्छता म्हणूनही ओळखली जाते आणि उच्च-दाब स्वच्छता यंत्रांद्वारे राबवली जाते.

रासायनिक स्वच्छता ही रासायनिक घटक किंवा इतर द्रावकांचा वापर करून रासायनिक अभिक्रियांद्वारे वस्तूंच्या पृष्ठभागावरील घाण काढून टाकते. उदाहरणांमध्ये विविध अजैविक किंवा सेंद्रिय आम्लांच्या साहाय्याने गंज आणि चुना काढून टाकणे, आणि ऑक्सिडायझर्सच्या साहाय्याने पृष्ठभागावरील डाग काढणे यांचा समावेश होतो. रासायनिक घटक पृष्ठभागावरील दूषित घटकांशी किंवा आवरणाच्या थरांशी (जसे की क्षारांचे थर) अभिक्रिया करून त्यांना काढून टाकतात, ज्यामध्ये क्षार काढण्यासाठी ॲसिड वॉशिंग आणि अल्कलाइन वॉशिंगचा समावेश होतो. रासायनिक स्वच्छतेदरम्यान आधारस्तराचे क्षरण रोखण्यासाठी किंवा क्षरणाचा दर स्वीकार्य मर्यादेत नियंत्रित करण्यासाठी, रासायनिक स्वच्छतेच्या द्रावणांमध्ये सामान्यतः योग्य प्रमाणात क्षरण प्रतिबंधक आणि सक्रिय करणारे, भेदक व ओलावा देणारे गुणधर्म असलेले अतिरिक्त घटक मिसळले जातात.

स्वच्छता तंत्रे；बुडवून ठेवण्याची पद्धत, अभिसरण पद्धत, ऑन-लाइन स्वच्छता पद्धत (याला अविरत रासायनिक स्वच्छता पद्धत असेही म्हणतात).

इलेक्ट्रॉनिक अँटी-स्केलिंग आणि डीस्केलिंगचे तत्त्व: उच्च-वारंवारतेची विद्युत क्षेत्रे पाण्याच्या रेणूंची पुनर्रचना करून अँटी-स्केलिंग आणि डीस्केलिंगचे परिणाम साधतात. जेव्हा पाणी उच्च-वारंवारतेच्या विद्युत क्षेत्रातून जाते, तेव्हा त्याची भौतिक आण्विक रचना बदलते. मूळ संलग्न साखळीतील महा-रेणू (macromolecules) तुटून पाण्याचे एकेरी रेणू तयार होतात. पाण्यात विरघळलेल्या क्षारांचे धन आणि ऋण आयन पाण्याच्या एकेरी रेणूंनी वेढले जातात, ज्यामुळे त्यांच्या हालचालीचा वेग कमी होतो, प्रभावी टक्करांची वारंवारता कमी होते आणि स्थिरविद्युत आकर्षण कमकुवत होते. हे आयन आता गरम भिंतींवर किंवा पाईपच्या पृष्ठभागांवर एकत्र येऊ शकत नाहीत, त्यामुळे क्षारांची निर्मिती रोखली जाते. त्याच वेळी, पाण्याच्या रेणूंचा वाढलेला द्विध्रुव क्षण (dipole moment) धन आणि ऋण क्षार आयनांशी (चुनखडीच्या रेणूंशी) त्यांची बंधन क्षमता मजबूत करतो, ज्यामुळे गरम पृष्ठभागांवरील आणि पाईपच्या भिंतींवरील चुनखडी मऊ होते आणि ती सहजपणे वेगळी होऊन तिचे डीस्केलिंग होते.

स्थिर अँटी-स्केलिंग आणि डीस्केलिंग हे पाण्याच्या रेणूंची अवस्था बदलून इलेक्ट्रॉनिक डीस्केलिंगसारखीच उद्दिष्ट्ये साध्य करते, मात्र ते इलेक्ट्रॉनिक परिणामांऐवजी इलेक्ट्रोस्टॅटिक क्षेत्रांवर अवलंबून असते. याची कार्यप्रणाली पाण्याच्या रेणूंच्या ध्रुवीयतेमध्ये (डायपोल गुणधर्म) दडलेली आहे. जेव्हा पाण्याचे डायपोल इलेक्ट्रोस्टॅटिक क्षेत्रातून जातात, तेव्हा ते धन आणि ऋण प्रभारांद्वारे सलगपणे आणि सुव्यवस्थितपणे संरेखित होतात. पाण्यातील विरघळलेले क्षारांचे आयन पाण्याच्या डायपोलद्वारे वेढले जातात आणि डायपोल क्लस्टर्समध्ये क्रमाने मांडले जातात, ज्यामुळे त्यांच्या मुक्त हालचालींवर निर्बंध येतात आणि त्यांना पाईप/उपकरणांच्या भिंतींजवळ जाण्यापासून किंवा त्यावर जमा होऊन लाईमस्केल तयार करण्यापासून रोखले जाते. याव्यतिरिक्त, पाण्यातून मुक्त होणारा ऑक्सिजन पाईपच्या भिंतींवर एक अत्यंत पातळ ऑक्साईड थर तयार करतो, ज्यामुळे भिंतींचे क्षरण कमी होते.

स्वच्छता माध्यम

वेट क्लीनिंग आणि ड्राय क्लीनिंग

द्रव माध्यमांमध्ये केल्या जाणाऱ्या स्वच्छतेला सामान्यतः 'ओली स्वच्छता' असे म्हटले जाते आणि स्वच्छतेच्या बहुतेक पारंपरिक पद्धती याच प्रकारात मोडतात.

वायुरूप माध्यमांमध्ये केल्या जाणाऱ्या स्वच्छतेला ड्राय क्लीनिंग म्हणून वर्गीकृत केले जाते, ज्यामध्ये लेझर क्लीनिंग, अल्ट्राव्हायोलेट क्लीनिंग, प्लाझ्मा क्लीनिंग आणि ड्राय आईस ब्लास्टिंग क्लीनिंग यांचा समावेश होतो.

गंज प्रतिबंधक

क्षरण प्रतिबंधक हा एक असा पदार्थ आहे जो क्षरणकारक माध्यमात अल्प प्रमाणात मिसळला जातो आणि धातूंचे क्षरण मोठ्या प्रमाणात मंदावतो. धातू संरक्षणाच्या या तंत्राला क्षरण प्रतिबंधक संरक्षण म्हणून ओळखले जाते.

क्षरण प्रतिबंधकांचे वर्गीकरण

कार्यप्रणालीनुसार: अ‍ॅनोडिक अवरोधक, कॅथोडिक अवरोधक, मिश्र-प्रकारचे अवरोधक

संरक्षक फिल्मच्या वैशिष्ट्यांनुसार: ऑक्सिडायझिंग फिल्म-फॉर्मिंग इनहिबिटर, ॲडसॉर्प्शन-प्रकारचे इनहिबिटर, प्रेसिपिटेशन फिल्म-फॉर्मिंग इनहिबिटर

इतर वर्गीकरण निकष:

①सेंद्रिय आणि असेंद्रिय क्षरण प्रतिबंधक

२द्रवरूप, वायूरूप आणि घनरूप क्षरण प्रतिबंधक

③स्टील, तांबे आणि ॲल्युमिनियमसाठी गंजरोधक

२आम्लधर्मी, अल्कधर्मी आणि उदासीन क्षरण प्रतिबंधक

वस्तू स्वच्छ करणे

प्री-कमिशनिंग क्लीनिंग, नॉन-स्टॉप क्लीनिंग आणि शटडाउन मेंटेनन्स क्लीनिंग

प्री-कमिशनिंग क्लीनिंग

नवीन रासायनिक उपकरणे कार्यान्वित करण्यापूर्वी त्यांची रासायनिक स्वच्छता आणि पॅसिव्हेशन करणे आवश्यक आहे. अनुभवाने हे सिद्ध झाले आहे की, उपकरण सुरू करण्यापूर्वी केलेली रासायनिक स्वच्छता आणि पॅसिव्हेशन उत्पादन सुरक्षितता आणि आर्थिक कार्यक्षमतेसाठी महत्त्वपूर्ण फायदे देतात, ज्यामुळे भरीव आर्थिक परतावा मिळतो.

प्री-कमिशनिंग स्वच्छता आणि पॅसिव्हेशनचे उद्देश

रोलिंगच्या वेळी स्टील पाईप्स, स्टील प्लेट्स आणि स्टेनलेस स्टील यांसारख्या कच्च्या धातूंवर मिल स्केल तयार होतो. उत्पादन, वाहतूक, साठवणूक आणि स्थापनेदरम्यान उपकरणांवर गंज, वेल्डिंग स्लॅग, गंज संरक्षणासाठी स्टीलवर लावलेले तेलकट गंज प्रतिबंधक, धूळ, वाळू, सिमेंट, उष्णतारोधक साहित्य आणि इतर अशुद्धी जमा होतात. उपकरणांची क्षमता जसजशी वाढते, तसतसा स्टील पाईप्स आणि प्लेट्सच्या उत्पादनापासून, उपकरणांची निर्मिती, वाहतूक आणि स्थापना या प्रक्रियेतून अंतिम कार्यान्वयनापर्यंतचा कालावधी वाढतो. अधिक वेल्डिंग जोड आणि मोठे उष्ण पृष्ठभाग यांमुळे मिल स्केल, गंज, वेल्डिंग स्लॅग, गंज प्रतिबंधक आणि गाळ यांसारख्या दूषित घटकांचे एकूण प्रमाण वाढते.

साफसफाईनंतर, स्वच्छ धातूच्या पृष्ठभागांवर एक दाट रासायनिक पॅसिव्हेशन थर तयार होतो. हा थर घाण पुन्हा जमा होण्यास प्रभावीपणे प्रतिबंध करतो आणि उपकरणांना गंज व इतर रासायनिक हानीपासून विश्वसनीय संरक्षण देतो.

अखंड स्वच्छता

काही रासायनिक उपकरणे उत्पादनादरम्यान देखभाल आणि स्वच्छतेसाठी थांबवता येत नाहीत, ज्यामुळे अविरत स्वच्छता तंत्रज्ञानाच्या विकासाला चालना मिळाली. प्रगत स्वदेशी अविरत स्वच्छता प्रणाली उपकरणे कार्यरत असतानाच रासायनिक स्वच्छता आणि पॅसिव्हेशन शक्य करतात, ज्यामुळे उपकरणांचे स्थिर कार्य आणि सेवेची कार्यक्षमता सुनिश्चित होते.

शटडाउन देखभाल स्वच्छता

शटडाउन मेंटेनन्स क्लीनिंग म्हणजे रासायनिक उद्योगांच्या वार्षिक नियोजित ओव्हरहॉल कालावधीत सर्व उपकरणांवर केली जाणारी स्वच्छता प्रक्रिया होय. सामान्यतः, शटडाउन मेंटेनन्स दरम्यान एकेका युनिटवर सर्क्युलेटिंग केमिकल क्लीनिंग किंवा हाय-प्रेशर वॉटर जेट क्लीनिंग केले जाते.