Требования к тонкости помола
ОбщийПромышленная уборкаВысокоточная промышленная очистка и сверхточная промышленная очистка
Общая промышленная уборка включает в себя очистку поверхностей транспортных средств, судов и самолетов, которая позволяет удалить только относительно крупные загрязнения.
Высокоточная промышленная очистка включает в себя очистку в процессе обработки различных изделий, а также очистку поверхностей разнообразных материалов и оборудования, отличающуюся способностью удалять мельчайшие частицы загрязнений.
Сверхточная промышленная очистка подразумевает сверхточную очистку механических деталей, электронных компонентов, оптических элементов и других изделий в процессах высокоточного производства с целью удаления мельчайших частиц загрязнений.
Методы очистки
Физическая уборка иХимическая очистка
Физическая очистка основана на принципах механики, акустики, оптики, электричества и термодинамики. Используя внешнюю энергию, такую как механическое трение, ультразвуковые волны, отрицательное давление, высокое давление, удар, ультрафиолетовые лучи и пар, она удаляет загрязнения с поверхностей предметов, не изменяя химический состав загрязнений, то есть исходная химическая молекулярная структура остается неизменной.
①Методы механической очистки: очистка с помощью подметальных и скребковых машин, очистка буровых труб, дробеструйная очистка.
②Гидравлическая очистка: низконапорная гидравлическая очистка с давлением от 196 до 686 килопаскалей, что составляет приблизительно от 2 до 7 килограмм-сил на квадратный сантиметр, эквивалентно 0,2–0,7 МПа.
③Гидравлическая очистка под высоким давлением: давление для очистки под высоким давлением достигает 4900 килопаскалей, что составляет около 50 килограмм-сил на квадратный сантиметр, или 5 МПа. Этот метод также известен как очистка струей воды под высоким давлением и осуществляется с помощью аппаратов для очистки под высоким давлением.
Химическая очистка удаляет поверхностные загрязнения с предметов посредством химических реакций с использованием химических реагентов или других растворителей. Примерами являются удаление ржавчины и известкового налета с помощью различных неорганических или органических кислот, а также удаление поверхностных пятен с помощью окислителей. Химические реагенты реагируют с поверхностными загрязнениями или покрывающими слоями (такими как отложения накипи), удаляя их, включая кислотную и щелочную промывку для удаления накипи. Для предотвращения коррозии подложки во время химической очистки или контроля скорости коррозии в допустимых пределах в растворы для химической очистки обычно добавляют соответствующее количество ингибиторов коррозии и добавок с активирующими, проникающими и смачивающими свойствами.
методы уборки;метод погружения, метод циркуляции, метод непрерывной очистки (также называемый методом непрерывной химической очистки).
Принцип действия электронного противонакипного и противонакипного эффекта: высокочастотные электрические поля перестраивают молекулы воды, обеспечивая противонакипный и противонакипный эффект. При прохождении воды через высокочастотное электрическое поле изменяется её физическая молекулярная структура. Исходные ассоциированные цепные макромолекулы распадаются на отдельные молекулы воды. Положительные и отрицательные ионы солей, растворённых в воде, окружаются отдельными молекулами воды, что снижает скорость их движения, уменьшает частоту эффективных столкновений и ослабляет электростатическое притяжение. Ионы больше не могут агрегироваться на нагретых стенках или поверхностях труб, предотвращая тем самым образование накипи. В то же время, увеличенный дипольный момент молекул воды усиливает их способность связываться с положительными и отрицательными ионами солей (молекулами известкового налёта), размягчая известковый налёт на нагретых поверхностях и стенках труб для облегчения его удаления.
Статическая очистка от накипи и удаление накипи достигают тех же целей, что и электронная очистка, путем изменения состояния молекул воды, хотя она основана на электростатических полях, а не на электронных эффектах. Механизм заключается в полярности (дипольном свойстве) молекул воды. Когда диполи воды проходят через электростатическое поле, они непрерывно и упорядоченно выравниваются по положительным и отрицательным зарядам. Растворенные в воде ионы соли окружаются диполями воды и последовательно располагаются в дипольных кластерах, ограничивая их свободное движение и предотвращая их приближение к стенкам труб/оборудования или осаждение на них с образованием известкового налета. Кроме того, кислород, выделяющийся в воде, образует чрезвычайно тонкую оксидную пленку на стенках труб, предотвращая коррозию стенок.
Очистка материалов
Влажная и сухая чистка
Очистка, проводимая в жидких средах, обычно определяется как влажная очистка, и большинство традиционных методов очистки относятся к этой категории.
Очистка, проводимая в газообразных средах, относится к категории сухой очистки, включая лазерную очистку, ультрафиолетовую очистку, плазменную очистку и очистку сухим льдом.
Ингибиторы коррозии
Ингибитор коррозии — это вещество, добавляемое в небольших количествах в агрессивную среду, которое значительно замедляет коррозию металла. Этот метод защиты металла известен как защита с помощью ингибитора коррозии.
Классификация ингибиторов коррозии
По механизму действия: анодные ингибиторы, катодные ингибиторы, ингибиторы смешанного типа.
По характеристикам защитной пленки: ингибиторы, образующие окислительные пленки, ингибиторы адсорбционного типа, ингибиторы, образующие осадительные пленки.
Другие критерии классификации:
①Органические и неорганические ингибиторы коррозии
②Ингибиторы коррозии в жидкой, газовой и твердой фазах
③Ингибиторы коррозии для стали, меди и алюминия
④Кислотные, щелочные и нейтральные ингибиторы коррозии
Чистящие средства
Предпусковая очистка, непрерывная очистка и очистка в период планового технического обслуживания.
Предпусковая очистка
Новое химическое оборудование должно пройти химическую очистку и пассивацию перед вводом в эксплуатацию. Практика показала, что химическая очистка и пассивация перед запуском обеспечивают значительные преимущества для безопасности производства и экономической эффективности, принося существенную экономическую выгоду.
Цели предпусковой очистки и пассивации
Окалина образуется на сырьевых металлических материалах, таких как стальные трубы, стальные листы и нержавеющая сталь, в процессе прокатки. Ржавчина, сварочный шлак, маслянистые антикоррозионные составы, наносимые на сталь для защиты от коррозии, пыль, песок, цемент, теплоизоляционные материалы и другие примеси накапливаются на оборудовании во время производства, транспортировки, хранения и монтажа. По мере расширения производственных мощностей увеличивается время, прошедшее от производства стальных труб и листов, через изготовление оборудования, логистику и монтаж до окончательного ввода в эксплуатацию. Большее количество сварочных швов и большие нагреваемые поверхности приводят к увеличению общего объема загрязнений, включая окалину, ржавчину, сварочный шлак, антикоррозионные составы и осадок.
После очистки на чистых металлических поверхностях образуется плотная химическая пассивирующая пленка. Эта пленка эффективно предотвращает повторное загрязнение и обеспечивает надежную защиту оборудования от коррозии и других химических повреждений.
Непрерывная уборка
Некоторое химическое оборудование не может останавливать работу для технического обслуживания и очистки во время производства, что стимулировало развитие технологий непрерывной очистки. Современные отечественные решения для непрерывной очистки позволяют проводить химическую очистку и пассивацию, не отрывая оборудования от работы, обеспечивая стабильную работу оборудования и эффективность обслуживания.
Очистка в период планового технического обслуживания
Плановая очистка во время плановых остановок производства подразумевает проведение работ по очистке всего оборудования в период ежегодного планового капитального ремонта химических предприятий. Как правило, в ходе плановых остановок отдельные установки подвергаются циркуляционной химической очистке или очистке струей воды под высоким давлением.
Дата публикации: 07.07.2026
